Product
Introduction
Plasma Cleaner
제품문의
V1000
V1000는 고급 표면 처리 솔루션을 제공하는 장비로, 고주파 전력을 이용하여 플라즈마를 생성하여 표면을 청소하고 화학적으로 처리합니다.
- 특성
- 고주파 플라즈마를 이용하여 표면을 깨끗하게 청소하고 화학적으로 처리할 수 있어 정밀한 표면 처리가 가능합니다.
- 다양한 유형의 소재와 표면에 대응할 수 있어, 반도체 제조, 전자 기기 제조 등 다양한 분야에서 사용됩니다.
- 자동화된 작업 프로세스를 통해 작업 효율성을 크게 향상시키고, 사용자의 노력을 줄여줍니다.
- 오염물질이나 기타 불순물을 효과적으로 제거하여, 표면의 깨끗함과 품질을 유지할 수 있습니다.
- 화학적 처리를 최소화하고, 재료의 소모를 줄여서 환경에 미치는 영향을 최소화합니다.
제품 상세 설명
Plasma Cleaner (Parallel Electrode)
고온의 플라즈마를 이용하여 표면을 청소하거나 화학적으로 처리하는 장비입니다.
이 장비는 전자 기기 제조나 연구실에서 사용되어 부품의 표면을 오염 물질로부터 제거하거나 표면 처리를 수행하는 데 유용합니다.
V1000
Suitable for dry cleaning process such as the removal of organic substances, oxidized film, and for surface cleaning, etching, etc.
- Plasma Surface Cleaning Device
- The electrodes can be replaced by specially developed electrodes to improve the plasma efficiency
- High-precision matching unit and highly reliable RF generator