Product
Introduction

이미지
Plasma Cleaner

V1000

V1000는 고급 표면 처리 솔루션을 제공하는 장비로, 고주파 전력을 이용하여 플라즈마를 생성하여 표면을 청소하고 화학적으로 처리합니다.

Feature
고주파 플라즈마를 이용하여 표면을 깨끗하게 청소하고 화학적으로 처리할 수 있어 정밀한 표면 처리가 가능합니다.
다양한 유형의 소재와 표면에 대응할 수 있어, 반도체 제조, 전자 기기 제조 등 다양한 분야에서 사용됩니다.
자동화된 작업 프로세스를 통해 작업 효율성을 크게 향상시키고, 사용자의 노력을 줄여줍니다.
오염물질이나 기타 불순물을 효과적으로 제거하여, 표면의 깨끗함과 품질을 유지할 수 있습니다.
화학적 처리를 최소화하고, 재료의 소모를 줄여서 환경에 미치는 영향을 최소화합니다.
Product Inquiry

Detailed Specification

Plasma Cleaner (Parallel Electrode)

고온의 플라즈마를 이용하여 표면을 청소하거나 화학적으로 처리하는 장비입니다.
이 장비는 전자 기기 제조나 연구실에서 사용되어 부품의 표면을 오염 물질로부터 제거하거나 표면 처리를 수행하는 데 유용합니다.

V1000

Suitable for dry cleaning process such as the removal of organic substances, oxidized film, and for surface cleaning, etching, etc.

Plasma Surface Cleaning Device
The electrodes can be replaced by specially developed electrodes to improve the plasma efficiency
High-precision matching unit and highly reliable RF generator