Product
Introduction
Plasma Cleaner
Product Inquiry
PDC210
PDC210은 고주파 플라즈마를 이용하여 표면을 청소하고 화학적으로 처리하는 장비로 반도체 제조, 연구실 및 산업 분야에서 널리 사용됩니다.
- Feature
- 고주파 플라즈마를 이용하여 매우 정밀하고 깨끗한 표면 처리가 가능합니다
- 반도체 제조, 연구실 실험, 생명과학 연구 등 다양한 분야에서 널리 사용될 수 있습니다.
- 오염물질을 효과적으로 제거하여 표면의 깨끗함과 품질을 유지할 수 있습니다.
- 자동화된 작업 프로세스를 지원하여 작업 효율성을 크게 향상시키고 사용자의 노력을 줄일 수 있습니다.
- 화학적 처리를 최소화하고 재료 소모를 줄여서 환경에 미치는 영향을 최소화합니다.
Detailed Specification
Plasma Cleaner (Parallel Electrode)
고온의 플라즈마를 이용하여 표면을 청소하거나 화학적으로 처리하는 장비입니다.
이 장비는 전자 기기 제조나 연구실에서 사용되어 부품의 표면을 오염 물질로부터 제거하거나 표면 처리를 수행하는 데 유용합니다.
PDC210
Small and compact, suitable for R&D or any other dry cleaning processes
- Plasma Surface Treatment Device
- Simple and compact plasma surface treatment device
- RIE mode (DP mode is optional)
- Excellent electrode structure for plasma uniformity
- Touch panel for easy operation
- Equipped with 0 point stability vacuum manometer